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刘瑞鹏; 李刘合;
中国物理学会;
中国电工技术学会;
中国电子学会;
中国电机工程学会;
磁控溅射; 等离子体; 电磁场; 有限元模拟; 刻蚀;
机译:Zr和O对磁控溅射TiC _(0.5)+ ZrO _2和(Ti,Zr)C _(0.5)+ ZrO _2复合靶的磁控溅射沉积TiC(N)涂层结构和性能的影响
机译:直流反应磁控溅射涂层沉积钛靶中间离子清洁钛靶对涂层沉积沉积结构的影响
机译:反应靶磁控溅射热靶合成氧化铜膜的组成与结构
机译:磁控溅射型离子靶磁控溅射离子源生产氮化铝离子
机译:平移相加定理在圆柱体系统静电和静磁场分析中的应用。
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:Cu 4O3通过从氧化铜靶溅射的非反应性RF-磁控溅射沉积的薄膜
机译:等离子体诊断研究过程变量对射频磁控溅射过程中从(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类的影响。
机译:磁控溅射装置的靶组件,磁控溅射装置和使用磁控溅射装置的方法
机译:在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译:磁控溅射装置,背板,靶组件及磁控溅射方法
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