(OIM)4.6软件分析,结果表明该Ni基复合基带表面10°以内立方织构晶粒百分含量为97.9﹪;微取向差在10°以内的小角度晶界'/> 基于EBSD技术对Ni5W/Ni12W/Ni5W合金复合基带微取向的研究-赵跃索红莉祝永华刘敏何东马麟吉元周美玲-中文会议【掌桥科研】
首页> 中文会议>第二届全国电子背散射衍射技术及其应用会议 >基于EBSD技术对Ni5W/Ni12W/Ni5W合金复合基带微取向的研究

基于EBSD技术对Ni5W/Ni12W/Ni5W合金复合基带微取向的研究

摘要

EBSD技术是对材料微取向信息进行表征的一种重要测试和分析手段。采用该技术,对大冷轧变形量、再结晶退火后的Ni-W复合基带的表面和截面微取向进行了表征,对其晶粒取向、晶界特征等信息进行采集和分析。经Orientation Imaging Microscopy<'TM>(OIM)4.6软件分析,结果表明该Ni基复合基带表面10°以内立方织构晶粒百分含量为97.9﹪;微取向差在10°以内的小角度晶界的含量达到85.4﹪。此外,通过对具有多层结构的复合基带截面微取向图的分析表明,内外层不同材料再结晶温度的差异是保证复合基带表面能够形成锐利立方织构的主要原因。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号