首页> 中文会议>2007年激光技术发展与应用学术交流会 >111方向电场诱导的硅的倍频效应

111方向电场诱导的硅的倍频效应

摘要

理论上研究了硅晶体在[111]方向电场的作用下等效二阶极化率张量与C3v点群晶体的二阶极化率张量的形式相同;在此基础上研究了硅的[111]方向电场诱导的倍频效应,可以使入射光垂直于{1(1)0}面入射,从而研究硅的场致倍频效应随基频光偏振方向的变化.设计了底面为(1(1)0)面的半球形硅样品,为从实验上研究[111]方向电场诱导的硅的倍频效应,提出了一种实验方案。

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