衬底温度对磁控溅射硅薄膜结构性能的影响

摘要

采用磁控溅射镀膜技术，在不同衬底温度下沉积硅薄膜，利用拉曼(Raman)散射谱、X射线衍射(XRD)研究了衬底温度对薄膜微结构的影响，并对其结果进行分析讨论。rn 研究结果表明，随着衬底温度的升高，表征薄膜微结构的晶粒尺寸和晶化率呈现相似的变化规律：当衬底温度较低时，随着温度的升高，硅膜的晶粒尺寸和晶化率增加;当衬底温度超过120℃时，随着温度的进一步升高，薄膜的晶粒尺寸和晶化率都开始降低。