真空环境中MoS2/Au薄膜摩擦过程分析

摘要

采用磁控溅射的方法在9Cr18基体上制备了1 μm厚的MoS2／Au薄膜并测试了真空环境中其磨损寿命，通过纳米划痕和扫描电子显微镜观察了磁控溅射MoS2／Au薄膜的摩擦过程。结果表明：真空环境中，当载荷为10 N，线速度为1.6 m／s时，磁控溅射MoS2／Au薄膜的寿命超过60万转。稳定润滑阶段，它的摩擦系数为0.03。与稳定润滑阶段相比，此薄膜在摩擦过程中的跑和阶段磨损更严重。