沉积温度和退火处理对BCN薄膜结构的影响

摘要

采用脉冲激光沉积技术，在Si(100)基片上制备了硼碳氮（BCN）薄膜，研究了沉积温度和退火处理对BCN薄膜组分和结构的影响。利用傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线光电子能谱（XPS）对制备的BCN薄膜进行了表征。结果表明：沉积温度升高时，BCN薄膜的组分无明显改变。所制备的BCN薄膜包含B-N，C-B和C-N化学键，是由杂化的B-C-N键构成的化合物。真空退火温度为700℃时，BCN薄膜结构稳定；大气退火温度达到600℃时，BCN薄膜表面发生氧化分解，同时有C≡N键形成，表明C≡N键具有较好的高温热稳定性。