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193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究

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摘要

193nm氟化物减反射膜放置一段时间,性能会发生变化,本文主要研究其光学性能的时效变化.真空紫外分光光度计测试结果显示:两批不同膜系的减反射膜测试片的中心波长向长波方向以不同速率漂移,反射率低于0.5％的带宽变化不一致.从膜系和材料参数方面对193nm减反射膜变化进行了理论分析.

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来源
《上海市激光学会2015年学术年会》|2015年|157-158|共2页
会议地点上海
作者
赵家; 汪琳; 张伟丽; 易葵; 邵建达;
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作者单位

上海市激光学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
减反射膜; 氟化物; 光学性能; 时效性;

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